logo
Not Found
Oops! Page Not Found.
Sorry, the page you're looking for couldn't be found. It might have been removed, had its name changed, or is temporarily unavailable.
Back to Home
Latest Products

Wytwarzanie półprzewodników Ultra Cienkie (0,5 mm ∼3 mm) Płyty szklane kwarcowe

Semiconductor Manufacturing Ultra Thin (0.5mm–3mm) Quartz Glass Plate Product Overview High purity 99.99% high temperature resistant, corrosion resistant quartz glass rectangle square sheet. Customized corrosion resistant and high temperature resistant quartz frosted plates manufactured by Shengfan ...
Jakość Przejrzysta, odporna na wysokie temperatury, płytka szklana kwarcowa do sprzętu półprzewodnikowego fabryka VIDEO

Przejrzysta, odporna na wysokie temperatury, płytka szklana kwarcowa do sprzętu półprzewodnikowego

Hot Sale UV High Transmittance Anti-Corrosion Clear Flat Quartz Glass Plate Product Characteristics Brand shengfanquartz SIO2 99.99% Density 2.2 (g/cm³) Degree of hardness moh' scale 6.6 Melting point 1732℃ Working temperature 1100℃ Annealing point 1180℃ Softening point 1630℃ Specification ...
Jakość Odporna na wysokie temperatury płyta z topionego kwarcu krzemionkowego z wysoką przepuszczalnością światła, przetwarzana na zamówienie fabryka VIDEO

Odporna na wysokie temperatury płyta z topionego kwarcu krzemionkowego z wysoką przepuszczalnością światła, przetwarzana na zamówienie

Hot Sale UV High Transmittance Anti-Corrosion Clear Flat Quartz Glass Plate Product Characteristics Brand shengfanquartz SIO2 99.99% Density 2.2 (g/cm³) Degree of hardness moh' scale 6.6 Melting point 1732℃ Working temperature 1100℃ Annealing point 1180℃ Softening point 1630℃ Specification ...
Jakość Odporność na ciepło Wysoka czystość SiO2>99,99% Długość OD ID fabryka VIDEO

Odporność na ciepło Wysoka czystość SiO2>99,99% Długość OD ID

High Temperature Resistant Clear Quartz Glass Tube No Bubbles Fused Silica Pipe for Semiconductor Diffusion Furnace Product Characteristics SiO₂ Content 99.9% Density 2.2 g/cm³ Hardness (Moh's Scale) 6.6 Melting Point 1732℃ Working Temperature 1100℃ Max Short-term Temperature 1450℃ Visible Light ...
Jakość Fabryka bezpośrednia wysokiej czystości, odporna na ciepło 1200°C, przejrzysta, kwarcowa, do półprzewodników fabryka VIDEO

Fabryka bezpośrednia wysokiej czystości, odporna na ciepło 1200°C, przejrzysta, kwarcowa, do półprzewodników

Fabryczna rura kwarcowa o wysokiej czystości, zawierająca 99,99% SiO₂, wytrzymuje temperatury 1200℃. Rozmiary niestandardowe 10-10000 mm OD, idealne do półprzewodników, pieców wysokotemperaturowych i zastosowań laboratoryjnych. Dostępne bezpłatne próbki.
Jakość Odporna na wysoką temperaturę 1100° Odporna na korozję 99,99% SiO2 kwarcowa szklana rura do zastosowań w piecach fabryka VIDEO

Odporna na wysoką temperaturę 1100° Odporna na korozję 99,99% SiO2 kwarcowa szklana rura do zastosowań w piecach

Odporne na wysokie temperatury rurki ze szkła kwarcowego o temperaturze 1100°C i czystości SiO₂ 99,99%. Odporny na korozję, gęstość 2,2 g/cm3, idealny do pieców, sprzętu półprzewodnikowego i zastosowań laboratoryjnych. Dostępne opcje niestandardowe z certyfikatami ISO9001, CE, RoHS.
Jakość Specjalny rozmiar Płytka krzemianowa stopiona o optycznej jakości Wysokotemperaturowa odporna na korozję kwadratowa płytka szklana kwarcowa do półprzewodników fabryka VIDEO

Specjalny rozmiar Płytka krzemianowa stopiona o optycznej jakości Wysokotemperaturowa odporna na korozję kwadratowa płytka szklana kwarcowa do półprzewodników

Przezroczysty dysk kwarcowy JGS1 GE214 z topionej krzemionki o czystości SiO2 99,99%, przepuszczalności światła 92% i odporności na wysoką temperaturę do 1100°C. Dostępne są niestandardowe rozmiary i specyfikacje z pełnymi możliwościami produkcyjnymi.
Jakość Płytka z topionego kwarcu o jakości optycznej z przepuszczalnością 92% i odpornością na ciepło 1150°C do zastosowań UV fabryka VIDEO

Płytka z topionego kwarcu o jakości optycznej z przepuszczalnością 92% i odpornością na ciepło 1150°C do zastosowań UV

Optyczna płyta kwarcowa z topionej krzemionki o przepuszczalności 92%, odporności na ciepło 1150 ℃, wysokiej czystości (SiO₂>99,99%), gęstości 2,2 g/cm3 i twardości Morse'a 6,5. Dostępne są niestandardowe kształty i specyfikacje dla zastosowań UV, maszyn przemysłowych, przyrządów optycznych i środowisk o wysokiej temperaturze.